Soutenance de thèse de Mr SAEID Mazen

Vendredi le 30 septembre 2011 à 10h30

Résumé de thèse :
A l'heure actuelle, les modèles utilisés dans la correction des effets de proximité optiques (OPC) en photolithographie sont devenus complexes  et moins physiques afin de permettre de capturer  rapidement le maximum d'effets optiques et chimiques. La question de la stabilité de tels modèles purement empiriques est devenue d'actualité. Dans ce mémoire, nous avons  étudié la stabilité des modèles OPC actuels en examinant les différentes causes d'instabilité vis-à-vis des paramètres du procédé.  Dans la suite, nous avons développé une méthode perturbative permettant d'évaluer le critère de la stabilité. L'obtention de modèles simples et stables nous incite à séparer les effets optiques des autres effets chimiques.  De plus, l'utilisation des approximations dans la modélisation optique dans des systèmes opérant à grande ouverture numérique entraîne des erreurs résiduelles pouvant dégrader la précision et la stabilité des modèles OPC.  Ainsi, nous nous sommes intéressés à étudier les limites de validité de l'approximation de Kirchhoff, méthode qui, jusqu'à présent,  est la plus utilisée dans la modélisation du champ proche d'un masque.  D'autres méthodes semi-rigoureuses, permettant de modéliser les effets topographiques, ont été également évaluées. Ces méthodes approchées permettent de gagner en précision mais dégradent le temps de calcul. Finalement, nous avons développé une autre méthode hybride, la méthode des multi-niveaux, rapide et précise.