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ABSTRACT :
Les copolymères à blocs s'auto-organisent sous forme de réseaux denses de nano-objets dont les dimensions varient de 5 à 50 nm. Selon les caractéristiques du système, les objets pourront décrire des réseaux de sphères, de cylindres ou de lamelles incorporés dans une matrice organique. L'objectif de cette étude est d'utiliser les propriétés d'organisation de ce matériau pour fabriquer des nanofils silicium en vue d'applications nanoélectroniques. Pour cela, les motifs cylindriques du système PS-block-PMMA sont transférés par des procédés de gravure plasma. La hauteur du masque polymère étant de l'ordre de 10 nm seulement, différentes stratégies sont développées et proposent des procédés expérimentaux en fonction de la profondeur à transférer dans le silicium. Par ailleurs, les motifs cylindriques du système s'organisent selon une direction parfaitement aléatoire. La mise en œuvre expérimentale d'une méthode d'épitaxie physique appelée graphoépitaxie propose une solution technologique pour exploiter l'organisation cylindrique en tant que masque de gravure.